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湖南电大几本,湖南长沙电大是几本 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知识产权局局(jú)长申长雨(yǔ)在新闻(wén)发(fā)布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制(zhì)度(dù)规则的制(zhì)修订工作。其中,修改完善集成电路布图(tú)设计保护条例,适应(yīng)大规(guī)模集(jí)成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务(wù)数字经(jīng)济更好发(fā)展。

  加(jiā)强大(dà)数据(jù)、人工智能、基因(yīn)技(jì)术等新领(lǐng)域新业态知识产权规则研究,助力相关领域(yù)创新发(fā)展。同时,积极(jí)参与知识产权国(guó)际(jì)规则制定(dìng),更好对接高标准国际(jì)经贸规则(zé),助力高(gāo)水(shuǐ)平对外(wài湖南电大几本,湖南长沙电大是几本)开放。

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